1密度18.8-19.0g/cm 3
2主要用途:真空镀膜及精密电子工业中用于制造高质量的微电子元件。3钨靶尺寸规格:厚度 | 长度 | 宽度 | 具体规格(例) |
≥1.5mm | ≤1000mm | ≤300mm | 1.57*34.93*43.41 |
厚度公差 | 长度公差 | 宽度公差 | 6.30*33.30*61.54 |
±0.025mm | ±0.025mm | ±0.025mm | 15.24*31.62*116.08 |
W | Al | Ca | Fe | Mg |
≥99.96% | ≤0.002 | ≤0.005 | ≤0.005 | ≤0.003 |
Ni | Si | C | O | |
≤0.003 | ≤0.005 | ≤0.008 | ≤0.005 |
牌号 | W1 | 产地 | 株洲 |
含量≥ | -----(%) | 杂质含量 | -----(%) |
重量 | -----(kg/块) |